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定位流行面料风向~ 道明光学邀您参加2016年中国国际纺织面料及辅料(秋冬)博览会
日期:2016-09-30
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流行从哪里来?

从设计师的灵感中来。

灵感从哪里来?

从一切元素中顿悟。

道明光学邀您参加2016年中国国际纺织面料及辅料(秋冬)博览会

定位面辅料流行趋势,

再以面辅料为基底,

顿悟属于我们自己的时尚

展会名称: 2016年中国国际纺织面料及辅料(秋冬)博览会

   展会地点: 国家会展中心(上海)

            展览时间: 2016年10月11日至2016年10月13日

道明展位:4.1号馆  K38

 

本届中国国际纺织面料及辅料(秋冬)博览会,道明光学将携最新瑞芙卡莱面料与大家相见,瑞芙卡莱为道明光学新型功能性反光面料主打品牌,设计师从色彩斑斓的鱼鳞中汲取鱼鳞反光与安全的功能属性并借鉴了古和氏璧细致温润、纯净、无暇之美的灵感最终形成了瑞芙卡莱最终精美创意logo作品,恰到好处的与面料爱与浪漫的质感完美契合,目前根据不同的应用场景道明光学已经成功的开发了两款反光面料,分别是服装反光面料和箱包反光面料,服装反光面料以四面弹为布基并拥有可随意定制图案的优秀技术,满足消费者多功能的需求,而箱包面料不仅能满足定制图案的需求,更能把定制3D图案的技术驾驭的炉火纯青,瑞芙卡莱就是你正在众里寻觅的面料!

 

 

展会期间道明光学还将展出时尚样衣款式、流行资讯以及完美的品牌企划服务展示,带给您独一无二的特别体验。我们诚挚邀请您的到来!

 

 

 我们专注于制造高端服装面料,我们将为服装设计师、品牌服装生产商持续提供实现价值的广阔空间。

 邀您参加展会是为了将公司取得的研发成果更好的向未来合作伙伴进行展示,以便寻求长久的合作关系。

 道明光学用品质和服务赢得您的认同,期待您的到来。

 

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